1.

国際会議録
国際会議録
1. Scatterometry based profile metrology of two-dimensional patterns of EUV masks
I. Pundaleva ; R. Chalykh ; H. Kim ; B. Kim ; H. Cho
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
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2. Detailed analysis of capability and limitations of CD scatterometry measurements for 65- and 45-nm nodes
I. Pundaleva ; R. Chalykh ; J. Lee ; S. Choi ; W. Han
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
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3. Image analysis of alignment and overlay marks with compound structure
R. Chalykh ; I. Pundaleva ; J. Shin ; S. Kim ; H. Cho ; J. Moon
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
4.

国際会議録
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4. Overlay metrology for dark hard mask process: simulation and experiment study
J. Shin ; R. Chalykh ; H. Kang ; S. Kim ; S. Lee ; H. Cho
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
5.

国際会議録
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5. Rigorous modeling and analysis of impact produced by microstructures in mask on wafer pattern fidelity
I. Pundaleva ; R. Chalykh ; M. Lee ; H. Kim ; B. Kim
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244H-1-69244H-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924