1.

国際会議録
国際会議録
1. Residual Fluorine Effects on High Selectivity HBr/Cl2 Etches
Hemker, D.J. ; Qian, X.Y. ; Lum, R.T. ; Hills, G.W.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Highly Selective Dry Etching and Damage Control.  pp.149-159,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-21
2.

国際会議録
国際会議録
2. Factors Affecting Charge-up in a Magnetically Enhanced RIE Polysilicon Etcher
Jha, N. ; Shin, H. ; Hills, G.W. ; Qian, X.Y. ; Hu, C.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Highly Selective Dry Etching and Damage Control.  pp.319-330,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-21