1.

国際会議録
国際会議録
1. An Advanced Well Structure to Improve Latch-Up Immunity for CMOS Technology
Puchner, H. ; Strelkova, N. ; Huang, S.-F.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.281-290,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
2.

国際会議録
国際会議録
2. Predictive Simulation of Void Formation during the Deposition of Silicon Nitride and Silicon Dioxide Films
Heitzinger, C. ; Sheikholeslanii, A. ; Puchner, H. ; Selberherr, S.
出版情報: Silicon nitride and silicon dioxide thin insulating films VII : proceedings of the international symposium.  pp.356-368,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-2
3.

国際会議録
国際会議録
3. Reliability Challenges for sub-90nm Technology Dielectrics
Puchner, H.
出版情報: Dielectrics for nanosystems: materials science, processing, reliability, and manufacturing : proceedings of the First international symposium.  pp.239-249,  2004.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2004-04
4.

国際会議録
国際会議録
4. Fabrication of Shallow Junctions With Conventional Furnace Equipment by Using Silicon Preimplants
Puchner, H. ; Aronowitz, S.
出版情報: Si front-end processing - physics and technology of dopant-defect interactions : symposium held April 6-9, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.65-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 568
5.

国際会議録
国際会議録
5. Simulation of void formation in interconnect lines
Sheikholeslami, A. ; Heitzinger, C. ; Puchner, H. ; Badrieh, F. ; Selberherr, S.
出版情報: VLSI Circuits and Systems.  pp.445-452,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5117