1.

国際会議録
国際会議録
1. PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY OF DILUTED HF SOLUTIONS
Alessandri, M. ; Bellandi, E. ; Pipia, F. ; Crivelli, B. ; Wolke, K. ; Schenkl, M.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.523-527,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
2.

国際会議録
国際会議録
2. THE ST CLEAN DUAL STEP CLEANING CONCEPT
Bellandi, R. ; Alessandri, M. ; Lodi, D. ; Pipia, F.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing : proceedings of the sixth international symposium.  pp.25-29,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-36
3.

国際会議録
国際会議録
3. OPTIMIZATION OF ETCHING UNIFORMITY AND REPEATABILITY IN DILUTED HF
Bellandi, E. ; Alessandri, M. ; Tonti, A. ; Pipia, F. ; Wolke, K. ; Schenkl, M. ; Geomini, M. ; Kwakman, L.F.T.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.207-212,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35