1.

国際会議録
国際会議録
1. DEGRADATION OF TiSi2/n+-POLYSILICON INTERFACES DUE TO HIGH TEMPERATURE PROCESSING
Shenai, K. ; Piacente, P. A. ; Smith, G. A. ; Lewis, N. ; McConnell, M . D. ; Norton, J. F. ; Hall, E. L. ; Baliga, B. J.
出版情報: Polysilicon films and interfaces : symposium held December 1-3, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.149-154,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 106
2.

国際会議録
国際会議録
2. ELECTRICAL CHARACTERISTICS OF TiSi2/n+-POLYSILICON/ Si02/Si MOS CAPACITORS STRESSED UNDER HIGH TEMPERATURE SILICIDE PROCESSING CONDITIONS
Shenai, K. ; Piacente, P. A. ; Baliga, B. J.
出版情報: SiO[2] and its interfaces : symposium held November 30-December 5, 1987, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.295-300,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 105