1.

国際会議録
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1. Complementary dipole exposure solutions at 0.29 k1
Heumann, J. ; Schramm, J. ; Birnstein, A. ; Park, K. T. ; Witte, T. ; Morgana, N. ; Hennig, M. ; Pforr, R. ; Thiele, J. ; Schmidt, N. ; Aquino, C.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.327-338,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Contact layer printing using alternating phase-shifting masks: mask making, patterning results, and production implementation
Pforr, R. ; Dettmann, W. ; Eisenhut, M. ; Hennig, M. ; Hofmann, D. ; Thiele, J. ; Thielscher, G.
出版情報: 20th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.178-187,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5504
3.

国際会議録
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3. Alternating PSM balancing characterization: a comparative study using AIMS and wafer print data [6154-163]
Sczyrba, M. ; Kahle, R. ; Bubke, K. ; Pforr, R. ; Neubauer, R.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615448-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
4.

国際会議録
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4. Simulation of quartz phase etch affect on performance of ArF chrome-less hard shifter for 65-nm technology [5853-57]
Park, K. T. ; Sczyrba, M. ; Bubke, K. ; Pforr, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.722-730,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
5.

国際会議録
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5. Full-level alternating PSM for sub-100nm DRAM gate patterning
Pforr, R. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Ludwig, B. ; Morgana, N. ; Thiele, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.232-243,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
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6. Introduction of full-level alternating phase-shift mask technology into IC manufacturing
Thiele, J. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Heissmeier, M. ; Hennig, M. ; Ludwig, B. ; Moukara, M. ; Pforr, R.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.89-97,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
7.

国際会議録
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7. Image degradation due to phase effects in chromeless phase lithography [6349-38]
Bubke, K. ; Sczyrba, M. ; Park, K. T. ; Neubauer, R. ; Pforr, R. ; Reichelt, J. ; Ziebold, R.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634913-634914,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
8.

国際会議録
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8. Hard phase-shifting masks for the 65-nm node: a performance comparison
Pforr, R. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Morgana, N. ; Thiele, J. ; Weckesser, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.212-221,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

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9. Irradiation resistance of intravolume shading elements embedded in photomasks used for CD uniformity control by local intra-field transmission attenuation [6283-11]
Zait, E. ; Ben-Zvi, G. ; Dmitriev, V. ; Oshemkov, S. ; UCLT Ltd. (Israel) ; Pforr, R. ; Henning, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62830E-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
10.

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10. Aerial image based mask defect detection in dense array structures [5853-85]
Kohle, R. ; Hennig, M. ; Pforr, R. ; Bubke, K. ; Sczyrba, M. ; Durr, A. C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.953-964,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853