1.

国際会議録
国際会議録
1. Anti-bubble topcoat for immersion lithography
Paulsson, A. ; Xing, K. ; Fosshaug, H. ; Lundvall, A. ; Bjornberg, C. ; Karlsson, J.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.527-536,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Characterization of 193-nm resists for optical mask manufacturing
Fosshaug, H. ; Paulsson, A. ; Berzinsh, U. ; Magnusson, H.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1256-1267,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567