1.

国際会議録
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1. FORMATION OF WELL-SEPARATED BURIED AND SURFACE NICKEL-SILICIDE LAYERS IN A SINGLE ION IMPLANTATION STEP
Wu, M.F. ; De Wachter, J. ; Hendrickx, P. ; Pattyn, H. ; Van Bavel, A.M. ; Langouche, G. ; Vanhellemont, J. ; Bender, H. ; Maenhoudt, M. ; Bruynseraede, Y.
出版情報: Beam-solid interactions : fundamentals and applications : symposium held November 30-December 4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.899-904,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 279
2.

国際会議録
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2. PHOSPHORUS AND BORON DOPING OF SILICON THIN FILMS USING ArF EXCIMER LASER
Slaoui, A. ; Pattyn, H. ; Fogarassy, E. ; De Unamuno, S. ; Stuck, R.
出版情報: Photons and low energy particles in surface processing : symposium held Decmber[i.e. December] 3-6, 1991, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.389-396,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 236
3.

国際会議録
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3. SEGREGATION GEY?ERING BY IMPLANTATION-FORMED CAVITIES AND B-Si PRECIPITATES IN SILICON
Myers, S. ; Petersen, G.A. ; Follstaedt, D.M. ; Seager, C.H. ; Headly, T.J. ; Michael, J.R. ; Deweerd, W. ; Koops, G. ; Verheyden, J. ; Pattyn, H.
出版情報: Silicon materials science and technology : proceedings of the Eighth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1150-1162,  1998.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 98-1(2)
4.

国際会議録
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4. SELECTIVE DEPOSITION OF N+ DOPED MC-Si:H:F BY RF PLASMA CVD ON Si AND SiO2 SUBSTRATES
Baert, k. ; Deschepper, P. ; Pattyn, H. ; Nijs, J. ; Mertens, R.
出版情報: Materials issues in microcrystalline semiconductors : symposium held November 29-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.359-364,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 164
5.

国際会議録
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5. ArF EXCIMER LASER DOPING INTO AMORPHOUS SILICON THIN FILMS
Elliq, M. ; Slaoui, A. ; Fogarassy, E. ; Pattyn, H. ; Struck, R. ; Siffert, P.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.739-744,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
6.

国際会議録
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6. ION BEAM SYNTHESIS OF BURIED CoxNi1-xSi2 LAYERS IN SILICON
Wu, M. F. ; Wachter, J. De ; Bavel, A.-M. Van ; Pattyn, H. ; Langouche, G. ; Vanhellemont, J. ; Bender, H. ; Temst, K. ; Wuyts, B. ; Bruynseraede, Y.
出版情報: Silicides, germanides, and their interfaces : Symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.159-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 320
7.

国際会議録
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7. Growth of Co on Ag(100): A comparison of ultra low energy ion beam deposition and thermal deposition
Degroote, B. ; Dekoster, J. ; Degroote, S. ; Pattyn, H. ; Vantomme, A. ; Langouche, G. ; Hou, M.
出版情報: Fundamental mechanisms of low-energy-beam-modified surface growth and processing : symposium held November 29-December 2, 1999, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.9-,  2000.  Warrendale, Pa..  MRS-Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 585
8.

国際会議録
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8. Nanosized metallic Sn precipitates in Si, formed upon ion implantation
Barancira, T. ; De Wachter J. ; Milants, K. ; Verheyden, J. ; Deweerd, W. ; Odeurs, J. ; Pattyn, H.
出版情報: Metastable phases and microstructures : symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.89-94,  1996.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 400
9.

国際会議録
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9. Formation and Thermal Stability of Nd0.32Y0.68Si1.7 Layers Formed by Channeled Ion Beam Synthesis
Wu, M. F. ; Vantomme, A. ; Hogg, S. ; Pattyn, H. ; Langouche, G. ; Jin, S. ; Bender, H.
出版情報: Advanced interconnects and contact materials and processes for future integrated circuits : symposium held April 13-16, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.191-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 514
10.

国際会議録
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10. Structural Characterization of Ion Beam Synthesized Epitaxial ErSi2-x Layers
Bender, H. ; Wu, M. F. ; Vantomme, A. ; Pattyn, H. ; Langouche, G.
出版情報: Silicide thin films - fabrication, properties, and applications : Symposium held November 27-30, 1995, Boston, Massachusetts, USA.  pp.499-,  1996.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 402