1.

国際会議録

国際会議録
Kim,T.-G. ; Hwang,S.-M. ; Kim,S.-I. ; Son,C.-S. ; Kim,E.K. ; Min,S.-K. ; Park,J.-H. ; Park,K.-H.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.63-67,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
2.

国際会議録

国際会議録
Kwon,H.-J. ; Oh,K.-S. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.532-539,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
3.

国際会議録

国際会議録
Kwon,H.-J. ; Min,D.-S. ; Jang,P.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.382-389,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
4.

国際会議録

国際会議録
Kwon,H.-J. ; Chang,B.-S. ; Choi,B.-Y. ; Park,K.-H. ; Jeong,S.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.218-225,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066