1.

国際会議録
国際会議録
1. Novel antireflective structure for metal layer patterning
Choi,S.-S. ; Cha,H.S. ; Kim,J.-S. ; Park,J.M. ; Kim,D.H. ; Lee,K.H. ; Ahn,J. ; Chung,H.B. ; Kim,B.W.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.336-346,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録
国際会議録
2. Gel layer model for photoresist development
Cho,J.Y. ; Choi,S.J. ; Kim,B.U. ; Park,J.M. ; Lee,S.J.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.432-441,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999