1.

国際会議録
国際会議録
1. Effect of In Situ H2 Plasma Pretreatment on the Low Temeprature Microcrystalline (μc-Si:H) Silicon Film Deposited on Amorphous Si02 and SiNx:H Surfaces
Park, Y.-B. ; Rhee, S.-W.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1274-1281,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
2.

国際会議録
国際会議録
2. Deposition of SiO2 by Remote Plasma CVD with SiH4-N2O
Rhee, S.-W. ; Park, Y.-B. ; Kang, J.-K.
出版情報: AIchE 1994 Annual Meeting : November 13-18 San Francisco Hilton and Towers Hotel, San Francisco, California.  1994.  New York.  American Institute of Chemical Engineers
シリーズ名: AIChE meeting [papers]
シリーズ巻号: 1994