1.

国際会議録
国際会議録
1. Characterization and improvement of resist pattern collapse on ArF (193 nm) organic B.A.R.C.
Hwang, Y.-S. ; Jung, J.-C. ; Park, K.-D. ; Lee, S.-K. ; Kim, J.-S. ; Kong, K.-K. ; Shin, K.-S. ; Ding, S.-J. ; Xiang, Z. ; Neisser, M.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part Two  pp.1119-1125,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
2.

国際会議録
国際会議録
2. 100-nm device fabrication using ArF resist
Lee, S.-K. ; Jung, J.-C. ; Hwang, Y.-S. ; Park, K.-D. ; Kim, J.-S. ; Kong, K.-K. ; Shin, K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.571-576,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
3.

国際会議録
国際会議録
3. Amine gradient process for 157-nm lithography
Jung, J.-C. ; Kong, K.-K. ; Hwang, Y.-S. ; Park, K.-D. ; Lee, S.-K. ; Lee, G.S. ; Kim, J.S. ; Shin, K.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.212-220,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690