1.

国際会議録
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1. Laser-induced shock wave removal of chemical-mechanical polishing slurries from silicon wafers
Lee, J.M. ; Cho, S.H. ; Park, J.G. ; Lee, S.H. ; Han, Y.P. ; Kim, S.Y.
出版情報: Third International Symposium on Laser Precision Microfabrication : proceedings : 27-31 May, 2002, Osaka, Japan.  pp.287-289,  2003.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4830
2.

国際会議録
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2. COP Induced Isolation Failures in Cz Wafers
Lee, G.S. ; Kwack, K.D. ; Park, J.G. ; Park, J.M. ; Shim, T.H.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.255-266,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
3.

国際会議録
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3. Effect of Crystal Defects Such as COPs, Large Dislocations, and OSF Ring on Device Integrity Degradation
Park, J.G. ; Lee, G.S. ; Park, J.M. ; Chon, S.M. ; Chung, H.K.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Defects in Silicon.  pp.324-341,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-1
4.

国際会議録
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4. SUBSTRATE DAMAGE-FREE LASER SHOCK CLEANING OF PARTICLES
Park, J.G. ; Busnaina, A. ; Lee, J.M. ; You, S.Y.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.190-194,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
5.

国際会議録
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5. Effect of High Temperature RTA on Precipitate Formation and the COP Dissolution
Park, J.G. ; Park, H.P. ; Lee, G.S. ; Kwack, K.D. ; Ryu, K.B. ; Park, J.M.
出版情報: ULSI process integration : proceedings of the first international symposium.  pp.157-166,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-18
6.

国際会議録
国際会議録
6. Effect of crystal defects on device characteristics
Park, J.G. ; Park, J.M. ; Cho, K.C. ; Lee, G.S. ; Chung, H.K.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Crystalline Defects and Contamination, their Impact and Control in Device Manufacturing II.  pp.173-195,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-22
7.

国際会議録
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7. Effect of Additives in Post Cu CMP Cleaning Solutions on Particle Adhesion and Removal
Hong, Y.K. ; Eom, D.H. ; Lee, S.H. ; Park, J.G. ; Busnaina, A.A.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.19-26,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-21
8.

国際会議録
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8. Comparison of Oxide Breakdown Mechanism Due to D-Defects and Oxygen Precipitates
Park, J.G. ; Ushio, S. ; Takeno, H. ; Cho, K.-C. ; Kim, J.-K. ; Rozgonyi, G.A.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.53-64,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-33
9.

国際会議録
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9. Temperature Dependent Electron Beam Induced Current Studies of MOS Capacitor Structures
Kirk, H.R. ; Park, J.G. ; Lee, D.M. ; Rozgonyi, G.A.
出版情報: Proceedings of the Symposium on the Degradation of Electronic Devices due to Device Operation as well as Crystalline and Process-Induced Defects.  pp.275-285,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-1
10.

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10. In-situ Recycle of Used Oxide Slurry for Production
Park, J.G. ; Lee, K.J. ; Kim, M.S.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.138-147,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-21