1.

国際会議録
国際会議録
1. Nanotopography Effect of Improved Single-Side-Polished Wafer on Oxide CMP
Katoh, T. ; Park, J.-G. ; Park, J.-H. ; Paik, U.-G.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.193-201,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-1
2.

国際会議録
国際会議録
2. Spectral Analysis Method for Nanotopography Impact on Pad and Removal Depth Dependency in Oxide CMP
Park, J.-G. ; Katoh, T. ; Yoo, H-C. ; Paik, U.-G.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.202-209,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-1