1.

国際会議録
国際会議録
1. Mask critical dimension error on optical lithography
Eom,T.-S. ; Koo,S.-S. ; Paek,S.-W. ; Kim,H.-B. ; Ahn,C.-N. ; Baik,K.-H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.32-39,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
2.

国際会議録
国際会議録
2. Feasibility study on the ArF attenuated phase-shift mask for 100-nm node lithography
Koo,S.-S. ; Kim,S.-J. ; Paek,S.-W. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Shin,K.-S.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.770-777,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
国際会議録
3. Potentialities of sub-100-nm optical lithography of alternating and phase-edge phase-shift mask for ArF lithography
Koo,S.-S. ; Kim,H.-B. ; Yune,H.-S. ; Hong,J.-S. ; Paek,S.-W. ; Eom,T.-S. ; Ahn,C.-N. ; Ham,Y.-M. ; Baik,K.-H. ; Lee,K.-Y. ; Kim,L.-J. ; Kim,H.-S.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.346-358,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186