1.

国際会議録
国際会議録
1. Extending immersion lithography to the 32-nm node
S. Warrick ; W. Conley ; V. Farys ; M. Benndorf ; J. Gemmink ; Y. Trouiller ; J. Belledent ; D. Jovanovic ; P. Gouraud
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. Process control for 45 nm CMOS logic gate patterning
B. Le Gratiet ; P. Gouraud ; E. Aparicio ; L. Babaud ; K. Dabertrand
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  1  pp.69220Z-1-69220Z-11,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922