1.

国際会議録
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1. Development of ZrSiO attenuated phase-shift mask for ArF excimer laser lithography
Fukuhara,N. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Matsuo,T. ; Takeuchi,S. ; Tomiyama,K. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.979-986,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
2.

国際会議録
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2. ZrSiO:a new and robust material for attenuated phase-shift mask in ArF Lithography
Onodera,T. ; Matsuo,T. ; Nakazawa,K. ; Miyazaki,J. ; Ogawa,T. ; Morimoto,H. ; Haraguchi,T. ; Fukuhara,N. ; Otaki,M. ; Takeuchi,S.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part1  pp.337-343,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
3.

国際会議録
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3. High-resolution thickness measurements and evaluation of a photomask blank
Hirano,T. ; Matsuo,R. ; Tomiyama,K. ; Yazawa,I. ; Wada,H. ; Otaki,M. ; Omote,K.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.562-572,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
4.

国際会議録
国際会議録
4. Evaluation of photomask blanks layer parameters with an x-ray reflection method and photomask property distribution
Hirano,T. ; Hayashi,A. ; Hino,Y. ; Wada,H. ; Otaki,M. ; Matsuo,R.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.522-531,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
5.

国際会議録
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5. Structural and thickness distribution evaluation of a multilayer photomask blank with x-ray reflectivity method
Hirano,T. ; Wada,H. ; Otaki,M. ; Matsuo,R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.503-513,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
6.

国際会議録
国際会議録
6. Pattern shape analysis tool for defect judgement of photomask
Matsuo,F. ; Otaki,M. ; Fukugami,N. ; Yonekura,I. ; Fukushima,Y.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.356-367,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
7.

国際会議録
国際会議録
7. Materials for an attenuated phase-shifting mask in 157-nm lithography
Matsuo,T. ; Onodera,T. ; Itani,T. ; Morimoto,H. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Otaki,M.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.268-274,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
8.

国際会議録
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8. Realization of mass prouction for 130-nm node and future application for high transmission using ZrSi-based attenuated phase-shift mask in ArF lithography
Ii,T. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ohshima,T. ; Otaki,M. ; Iwakata,M. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Yamazaki,T. ; Fukuhara,N. ; Matsuo,T.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.297-308,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
9.

国際会議録
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9. ZrSiON as a material for high-transmittance attenuated PSM
Kanayama,K. ; Haraguchi,T. ; Yamazaki,T. ; Ii,T. ; Matsuo,T. ; Fukuhara,N. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.147-154,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
10.

国際会議録
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10. Pattern shape analysis tool for quantitative estimate of photomask and process
Yonekura,I. ; Fukushima,Y. ; Matsuo,F. ; Otaki,M. ; Fukugami,N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.204-211,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409