1.

国際会議録
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1. Interface Formation During Epitazial Growth of Binary Metal Oxides on Silicon
Osten, H. J. ; Fissel, A. ; Kirfel, O. ; Elassar, Z. ; Bugiel, E. ; Czernohorsky, M.
出版情報: Defects in high-κ gate dielectric stacks : nano-electronic semiconductor devices.  pp.361-373,  2006.  Dordrecht.  Springer
シリーズ名: NATO science series. Series 2, Mathematics, physics and chemistry
シリーズ巻号: 220
2.

国際会議録
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2. THE INFLUENCE OF SURFACTANTS ON THE GROWTH OF GERMANIUM LAYERS ON SILICON SURFACES BY MBE
Osten, H. J. ; Klatt, J. ; Lippert, G. ; Bugiel, E. ; Dietrich, B.
出版情報: Mechanisms of Heteroepitaxial growth : symposium held April 27-30, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.17-22,  1992.  Pittsburgh, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 263
3.

国際会議録
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3. CHARACTERIZATION OF VALENCE BAND OFFSETS IN P-Si/SiGe/Si BY SPACE CHARGE SPECTROSCOPY
Schmalz, K. ; Rucker, H. ; Yassievich, I. N. ; Grimmeiss, H. G. ; Mehr, W. ; Frankenfeld, H. ; Osten, H. J. ; Schley, P. ; Babanskaya, I.
出版情報: Growth, processing, and characterization of semiconductor heterostructures : Symposium held November 29-December 2, 1993, Massachusetts, U.S.A..  pp.389-,  1994.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 326
4.

国際会議録
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4. Heavy Phosphorus Doping in Molecular Beam Epitaxial Grown Silicon and Silicon/Germanium with a GaP Decomposition Source
Lippert, G. ; Osten, H. J. ; Kruger, D.
出版情報: Strained layer epitaxy - materials processing and device applications : symposium held April 17-19, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.411-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 379
5.

国際会議録
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5. PROBLEMS OF CONTAMINATION PRIOR AND DURING Si-MBE
Lippert, G. ; Kruger, D. ; Zeindl, H. P. ; Ramm, J. ; Bugiel, E. ; Osten, H. J.
出版情報: Surface chemical cleaning and passivation for semiconductor processing.  pp.85-,  1993.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 315
6.

国際会議録
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6. Optical Transitions in Strained Si1-yCy and S1-x-yGexCy Layers
Osten, H. J. ; Kissinger, W. ; Weidner, M. ; Eichler, M.
出版情報: Strained layer epitaxy - materials processing and device applications : symposium held April 17-19, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.199-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 379