1.

国際会議録
国際会議録
1. Long-term testing of optical components for 157-nm lithography
Liberman,V. ; Rothschild,M. ; Sedlacek,J.H.C. ; Uttaro,R.S. ; Bates,A.K. ; Orvek,K.J.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.488-495,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. Progress in 157-nm lithography development at Intel:resists and reticles
Rao,V. ; Panning,E.M. ; Liao,L. ; Hutchinson,J.M. ; Grenville,A. ; Holl,S.M. ; Bruner,D. ; Balasubramanian,R. ; Kuse,R. ; Dao,G.T. ; Zheng,J.-F. ; Orvek,K.J. ; Langston,J.C. ; Lo,F.-C.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part2  pp.1574-1581,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
3.

国際会議録
国際会議録
3. Current Status of 157-nm mask technology development
Dao,G. ; Kuse,R. ; Orvek,K.J. ; Panning,E.M. ; Remling,R. ; Zheng,J.F. ; Tsubasaki,M. ; Lo,F.-C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.552-563,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066
4.

国際会議録
国際会議録
4. Marathon evaluation of optical materials for 157-nm lithography
Liberman,V. ; Rothschild,M. ; Efremow Jr.,N.N. ; Palmacci,S.T. ; Sedlacek,J.H.C. ; Peski,C.K.Van ; Orvek,K.J.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.45-51,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
5.

国際会議録
国際会議録
5. Characterization of positive DUV resists at 0.25-ｦﾌm polygate using organic and inorganic antireflection schemes
Dass,S.K. ; Orvek,K.J. ; Gruber,L. ; Broomfield,M.C. ; Tremblay,J. ; Piasecki,M.
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.405-416,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
6.

国際会議録
国際会議録
6. Migrating deep-UV lithography to the 0.25-ｦﾌm regime:issues and outlook
Orvek,K.J. ; Dass,S.K. ; Gruber,L. ; Dumford,S.A. ; Piasecki,M. ; Pollard,G.W. ; Fink,I.D.
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part1  pp.398-409,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726