1.

国際会議録

国際会議録
Patterson,K. ; Okoroanyanwu,U. ; Shimokawa,T. ; Cho,S. ; Byers,J.D. ; Willson,C.G.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.425-437,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
2.

国際会議録

国際会議録
Niu,Q.J. ; Frechet,J.M.J. ; Okoroanyanwu,U. ; Byers,J.D. ; Willson,C.G.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.113-123,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
3.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Shimokawa,T. ; Byers,J.D. ; Medeiros,D.R. ; Willson,C.G. ; Niu,Q.J. ; Frechet,J.M.J. ; Allen,R.D.
出版情報: Advances in resist technology and processing XIV : 10-12 March 1997, Santa Clara, California.  pp.92-103,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3049
4.

国際会議録

国際会議録
Phan,K.A. ; Spence,C.A. ; Schefske,J.A. ; Okoroanyanwu,U. ; Levinson,H.J.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California.  pp.773-780,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3998
5.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Pike,C. ; Levinson,H.J.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California.  pp.277-283,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3998
6.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Levinson,H.J. ; Romero,J. ; Singh,B. ; Lee,S.-J.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California.  pp.781-790,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3998
7.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Cobb,J.L. ; Dentinger,P.M. ; Henderson,C.C. ; Rao,V. ; Monahan,K.M. ; Luo,D. ; Pike,C.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XIV : 28 February - 2 March 2000, San Clara, California.  pp.515-526,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3998
8.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Levinson,H.J. ; Yang,C.-Y. ; Pangrle,S.K. ; Schefske,J.A. ; Kent,E.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.423-434,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
9.

国際会議録

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Schefske,J.A. ; Kent,E. ; Okoroanyanwu,U. ; Levinson,H.J. ; Masud,C.R. ; Streefkerk,B. ; Hanzen,R. ; Brueback,J.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.460-471,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
10.

国際会議録

国際会議録
Okoroanyanwu,U. ; Byers,J.D. ; Cao,T. ; Webber,S.E. ; Willson,C.G.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.747-757,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333