1.

国際会議録
国際会議録
1. Hydrogenation and passivation of B in Si by boiling in water pressurized up to 10 atm
Ohmura,Y. ; Abe,K. ; Ohtaka,M. ; Kimoto,A. ; Yamaura,M.
出版情報: Defects in semiconductors, icds-19 : proceedings of the 19th International Conference on Defects in Semiconductors, Aveiro, Portugal, July 1997.  Part1  pp.185-190,  1997.  Zurich, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 258-263
2.

国際会議録
国際会議録
2. Current status of Nikon's F2 exposure tool development
Shiraishi,N. ; Owa,S. ; Ohmura,Y. ; Aoki,T. ; Matsumoto,Y. ; Hatasawa,M. ; Mori,T. ; Tanaka,I.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.81-88,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346