1.

国際会議録
国際会議録
1. Mechanism of Pore-Enlargement in Double Porous Si Layers
Sakaguchi, K. ; Kurisu, H. ; Ohmi, K. ; Yonehara, T.
出版情報: Pits and Pores : formation, properties, and significance for advanced materials : proceedings of the International Symposium.  pp.318-325,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-25
2.

国際会議録
国際会議録
2. Highly Reliable Thin SiO2 Film formation Technology
Ohmi, T. ; Okada, Y. ; Yabune, T. ; Ohmi, K.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Reliability of Metals in Electronics.  pp.44-53,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-3