1.

国際会議録
国際会議録
1. First microprocessors with immersion lithography
Lee, D.-Y. ; Kim, I.-S. ; Jung, S.-G. ; Jung, M.-H. ; Park, J.-O. ; Oh, S.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.119-128,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Is it possible to improve MEEF?
Oh, S.-H. ; Kim, H.-K. ; Kim, D.-J. ; Kim, Y.-S. ; Suh, C.-S. ; Koh, Y.-S. ; Song, C.-L.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1383-1391,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
国際会議録
3. Successful application of angular scatterometry to process control in sub-100-nm DRAM device
Kim, J.- ; Kim, S.-J. ; Chin, S.-B. ; Oh, S.-H. ; Goo, D.-H. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T. ; Raymond, C.J. ; Littau, M.E. ; Youn, B.J. ; Sohn, C.-J.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.541-549,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
4.

国際会議録
国際会議録
4. Comprehensive analysis of sources of total CD variation in ArF resist perspective
Kim, H.-W. ; Lee, H.-R. ; Kim, K.-M. ; Lee, S.Y. ; Kim, B.-C. ; Oh, S.-H. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.254-265,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376