1.

国際会議録
国際会議録
1. Annealing Properties of Defects in BF2+ Implanted Si
Kitano, T. ; Watanabe, M. ; Yaoita, A. ; Oguro, S. ; Uedono, A. ; Moriya, T. ; Tanigawa, S. ; Kawano, T. ; Suzuki, R. ; Ohdaira, T. ; Mikado, T.
出版情報: Materials modification and synthesis by ion beam processing : symposium held December 2-5, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.137-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 438
2.

国際会議録
国際会議録
2. Annealing Properties of Defects in BF2+-Implanted Si
Kitano, T. ; Watanabe, M. ; Yaoita, A. ; Oguro, S. ; Uendno, A. ; Moriya, T. ; Tanigawa, S. ; Kawano, T. ; Suzuki, R. ; Ohdaira, T. ; Mikado, T.
出版情報: Microstructure evolution during irradiation : symposium held December 2-5, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.143-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 439
3.

国際会議録
国際会議録
3. Resistivity Reduction of Thin Polycrystalline Silicon Films Crystallized from In Situ Phosphorus-Doped Amorphous Silicon Deposited Using Silane or Disilane
Oguro, S. ; Shishiguchi, S. ; Arai, K.
出版情報: ULSI science and technology, 1995 : proceedings of the Fifth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology.  pp.504-511,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-5