1.

国際会議録
国際会議録
1. Pitch doubling through dual-patterning lithography challenges in integration and litho budgets
M. Dusa ; J. Quaedackers ; O. F. A. Larsen ; J. Meessen ; E. van der Heijden ; G. Dicker ; O. Wismans ; P. de Haas ; K. van I. Schenau ; J. Finders ; B. Vleeming ; G. Storms ; P. Jaenen ; S. Cheng ; M. Maenhoudt
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
国際会議録
2. The flash memory battle: How low can we go?
E. van Setten ; O. Wismans ; K. Grim ; J. Finders ; M. Dusa
出版情報: Optical Microlithography XXI.  3  pp.69244I-1-69244I-14,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
3.

国際会議録
国際会議録
3. Characterizing the imaging performance of flash memory masks using AIMS
E. van Setten ; O. Wismans ; K. Grim ; J. Finders ; M. Duso
出版情報: EMLC 2008 : 24th European Mask and Lithography Conference : 21-24 January 2008, Dresden, Germany.  pp.67920K-1-67920K-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6792