1.

国際会議録
国際会議録
1. Cleaning of Silicon Surfaces for Nanotechnology
O. Senftleben ; H. Baumgärtner ; I. Eisele
出版情報: Rapid thermal processing and beyond : applications in semiconductor processing : special topic volume : selected papers from RTP specialists all over the world, Dornstadt, Germany.  pp.77-118,  2008.  Aedermannsdorf, Switzerland.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 573-574
2.

国際会議録
国際会議録
2. Loading Effects in the Selective Epitaxial Growth of n-Type Doped SiGe-Structures with LPCVD
M.W. Schindler ; O. Senftleben ; I. Eisele ; W. Taylor
出版情報: Solid-State Joint Session (General).  pp.31-34,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(33)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Selective Epitaxial Growth of Arsenic-Doped SiGe Structures with LPCVD
M. Schindler ; O. Senftleben ; M. Schmidt ; I. Eisele ; W. Taylor
出版情報: Solid-State Posters (General).  pp.33-40,  2006.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 1(30)