1.

国際会議録
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1. Evaluating a scatterometry-based focus monitor technique for hyper-NA lithography
C. S. Saravanan ; S. Nirmalgandhi ; O. Kritsun ; A. Acheta ; R. Sandberg ; B. L. Fontaine ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
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2. Lithography process control using scatterometry metrology and semi-physical modeling
K. Lensing ; J. Cain ; A. Prabhu ; A. Vaid ; R. Chong ; R. Good ; B. LaFontaine ; O. Kritsun
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
3.

国際会議録
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3. Evaluating the performance of a 193-nm hyper-NA immersion scanner using scatterometry
O. Kritsun ; B. L. Fontaine ; R. Sandberg ; A. Acheta ; H. J. Levinson ; K. Lensing ; M. Dusa ; J. Hauschild ; A. Pici ; C. Saravanan ; K. Primak ; R. Korlahalli ; S. Nirmalgandhi
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
国際会議録
4. Extending scatterometry to the measurements of sub 40 nm features, double patterning structures, and 3D OPC patterns
O. Kritsun ; B. La Fontaine ; Y. Liu ; C. S. Saravanan
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.69241M-1-69241M-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
5.

国際会議録
国際会議録
5. Defining a physically accurate laser bandwidth input for optical proximity correction (OPC) and modeling
I. Lalovic ; O. Kritsun ; S. McGowan ; J. Bendik ; M. Smith
出版情報: Photomask technology 2008.  1  pp.71221R-1-71221R-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
6.

国際会議録
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6. Evaluating diffraction based overlay metrology for double patterning technologies
C. S. Saravanan ; Y. Liu ; P. Dasari ; O. Kritsun ; C. Volkman
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXII.  1  pp.69220C-1-69220C-12,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6922
7.

国際会議録
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7. Fast and accurate laser bandwidth modeling of optical proximity effects
I. Lalovic ; O. Kritsun ; J. Bendik ; M. Smith ; C. Sallee
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301X-1-67301X-14,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730