1.

国際会議録
国際会議録
1. MONITORING OF Fe CONTAMINATION ON Si SURFACES USING NON-CONTACT SURFACE CHARGE PROFILER
Roman, P. ; Kashkoush, I. ; Novak, R.E. ; Kamieniecki, E. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.344-349,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20
2.

国際会議録
国際会議録
2. ETCH UNIFORMITY OF THERMAL OXIDE DURING HF-WET PROCESSES
Kashkoush, I. ; Novak, R.E. ; Rajaram, B. ; Carrillo, F.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.429-435,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20