1.

国際会議録
国際会議録
1. A complementary lithographic simulation method for improved yields following full-chip DRC
Nikolsky, P. ; Tweg, R. ; Pochkowski, M.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1207-1215,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
2.

国際会議録
国際会議録
2. Application challenges with double patterning technology (DPT) beyond 45 nm [6349-75]
Park, J. ; Hsu, S. ; Van Den Broeke, D. ; Chen, J. F. ; Dusa, M. ; Socha, R. ; Finders, J. ; Vleeming, B. ; van Oosten, A. ; Nikolsky, P. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Bekaert, J. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634922-634922,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
3.

国際会議録
国際会議録
3. LER characterization and impact on 0.13-μm lithography for OPC modeling
Nikolsky, P. ; Tweg, R. ; Altshuler, E. ; Shauly, E. N.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.1323-1331,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567