1.

国際会議録
国際会議録
1. A Low Temperature Technology on the Base of Hydrogen Enhanced Thermal Donor Formation for Future High-Voltage Applications
Job, R. ; Ulyashin, A.G. ; Fahrner, W.R. ; Niedernostheide, F.J. ; Schulze, H.J. ; Simoen, E. ; Claeys, C.L. ; Tonelli, G.
出版情報: Proceedings of the Eleventh International Workshop on the Physics of Semiconductor Devices : (December 11-15, 2001).  VOL-1  pp.405-413,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4746
2.

国際会議録
国際会議録
2. Low temperature Doping of Silicon by Hydrogen Plasma Treatments*
Job, R. ; Ulyashin, A.G. ; Ma, Y. ; Fahnwr, W.R. ; Simoen, E. ; Rafi, J.M. ; Claeys, C. ; Niedernostheide, F.J. ; Schulze, H.J.
出版情報: High purity silicon VII : proceedings of the international symposium.  pp.141-154,  2002.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-20