1.

国際会議録
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1. Selective Epitaxial Growth of SiGe Films in LPCVD Reactor Systems- Characterization of SiGe Films by Ellipsometry
Lee, I.M. ; Wang, W.C. ; Koh, M.T.K. ; Denton, J.P. ; Takoudis, C.G. ; Kram, E.P. ; Neudeck, G.W.
出版情報: Chemical vapor deposition : proceedings of the Fourteenth International Conference and EUROCVD-11.  pp.1348-1355,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-25
2.

国際会議録
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2. NOVEL STACKED CMOS PROCESS BY LOCAL OVERGROWTH
Zingg, Rene P. ; Hofflinger, B. ; Neudeck, G.W.
出版情報: In-situ patterning : selective area deposition and etching : symposium held November 29-December 1, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.365-370,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 158
3.

国際会議録
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3. 3-D Silicon-on-Insulator (SQl) Technologies Using Epitaxial Lateral Overgrowth (ELO) (Invited)
Neudeck, G.W.
出版情報: Proceedings of the Ninth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.25-35,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-3
4.

国際会議録
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4. Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Epitaxial Silicon-Germanium, Epitaxial Silicon and Poly-Silicon
Lee, I-M.R. ; Neudeck, G.W. ; Takoudis, C.G.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.107-112,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5