1.

国際会議録
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1. FAST PHOTOLUMINESCENCE DECAY IN a-Si-NX:H FILMS
Palsule, C. ; Gangopadhyay, S. ; Yi, S. ; Shen, J.M. ; Naseem, H.A. ; Kizzar, S. ; Goh, Freddy H.C.
出版情報: Amorphous insulating thin films : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.83-88,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 284
2.

国際会議録
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2. Stress in Microwave Plasma Chemical Vapor Deposited (MPCVD) Diamond Films
Naseem, H.A. ; Haque, M.S. ; Beera, R.A. ; Brown, W.D. ; Malshe, A.P.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.685-690,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5
3.

国際会議録
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3. A Highly Adhesive Gold-Based Metallization System for CVD Diamond Substrates
Jahangir, Farhat ; Naseem, H.A. ; Brown, W.D. ; Malshe, A.P. ; Ang, S.S.
出版情報: Diamond materials : proceedings of the sixth international symposium.  pp.275-289,  1999.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-32
4.

国際会議録
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4. Deposition of Hard Diamond-Like Carbon Films at Room Temperature
Brown, W.D. ; Beera, R.A. ; Naseem, H.A. ; Malshe, A.P.
出版情報: Proceedings of the Thirteenth International Symposium on Chemical Vapor Deposition.  pp.670-678,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-5
5.

国際会議録
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5. DEPOSITION OF FLUORINATED SILICON NITRIDE USING PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION TECHNIQUE
Khan, I. ; Naseem, H.A. ; Ang, S.S. ; Brown, W.D.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.757-762,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
6.

国際会議録
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6. WIDE BANDGAP FLUORINATED SILICON-CARBIDE-NITRIDE FILMS USING NP3
Goh, H.C. ; Tan, S.M. ; Naseem, H.A. ; Ang, S.S. ; Brown, W.D.
出版情報: Amorphous silicon technology 1991 : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.763-768,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 219
7.

国際会議録
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7. HYDROGENATED AMORPHOUS SILICON/ALUMINUM INTERACTION AT LOW TEMPERATURES
Haque, M.S. ; Naseem, H.A. ; Brown, W.D. ; Ang, S.S.
出版情報: Amorphous silicon technology, 1992.  pp.1037-1044,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 258
8.

国際会議録
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8. High Rate Deposition Of Silicon Dioxide Using PECVD For MCM Applications
Haque, M.S. ; Naseem, H.A. ; Brown, W.D. ; Arbuckle, B.W. ; Mhaskar, P.A.
出版情報: Proceedings of the third Symposium on Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Insulating Films.  pp.208-217,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-16
9.

国際会議録
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9. RECENT OBSERVATIONS OF MICROCAVITIES IN CVD DIAMOND: THEIR EFFECTS ON MCM PROCESSING
Malshe, A.P. ; Glezen, J.G. ; Naseem, H.A. ; Brown, W.D.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Diamond Materials.  pp.515-522,  1995.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-4
10.

国際会議録
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10. LARGE AREA DIAMOND FILM DEPOSITION FOR MULTICHIP MODULES (MCMS)
Brown, W.D. ; Beera, R. ; Haque, M.S. ; Naseem, H.A. ; Bootz, D. ; Gordon, M.H. ; Malshe, A.P.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Diamond Materials.  pp.636-642,  1995.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-4