1.

国際会議録
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1. Lithography manufacturing implementation for 65 nm and 45 nm nodes with model-based scattering bars using IML technology
Nam, D. ; Milster, T. D. ; Chen, T.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.355-367,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Improved scatterometry method of critical dimension measurements and its application for control of development process [6152-16]
Pundaleva, I. ; Nam, D. ; Han, H. ; Lee, D. ; Han, W.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61520G-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
3.

国際会議録
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3. Efffectiveness and confirmation of local area flare measurement method in various pattern layouts
Nam, D. ; Lee, E. ; Jung, S.-G. ; Kang, Y. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.57-66,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
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4. How large MEEF is acceptable for the low-k1 lithography- [5992-97]
Nam, D. ; Lee, D. -G. ; Kim, B. ; Moon, S. -Y. ; Choi, S. -W. ; Han, W. -S.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59922W-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
5.

国際会議録
国際会議録
5. Improved modeling of fogging and loading effect correction [5992-165]
Lee, S. ; Kim, B. ; Han, H. ; Nam, D. ; Moon, S. ; Choi, S. ; Han, W.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59924U-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
6.

国際会議録
国際会議録
6. An economic analysis on optical Ethernet in the access network
Kim, S.H. ; Nam, D. ; Yoo, G. ; Kim, W.
出版情報: Network Architectures, Management, and Applications.  pp.292-299,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5282
7.

国際会議録
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7. Investigation of stray light characteristic by multiple Gaussian modeling and its OPC application
Kim, H. ; Nam, D. ; Yeo, G.-S. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.459-462,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
8.

国際会議録
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8. Required mask specification for mass production devices below 65-nm design node [6349-81]
Nam, D. ; Choi, S. ; Doh, J. ; Noh, Y. ; Lee, H. ; Sin, Y. ; Kim, B. ; Kang, M. ; Han, W.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634928-634928,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
9.

国際会議録
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9. Maskless lithography with the solid immersion lens nano probes
Milster, T. ; Chen, T. ; Nam, D. ; Schlesinger, T. E.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.545-556,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567