1.

国際会議録
国際会議録
1. Large Scaled ALD/PECVD Reactor for Flat Panel Display Application
K. Murata ; K. Washio ; N. Miyatake ; Y. Mori ; H. Tachibana
出版情報: Atomic layer deposition applications 3.  pp.31-38,  2007.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 11(7)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Development of ALD/PECVD Reactor for High Quality LTPS-TFTs Insulator
K. Murata ; N. Miyatake ; Y. Mori ; H. Tachibana ; Y. Uraoka
出版情報: Thin Film Transistor Technology 8.  pp.101-106,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(8)