1.

国際会議録
国際会議録
1. Enhanced Dielectric Constant of HfO₂ and Al₂O₃ Thin-Films with Silver Nanoparticles
K. Ravindran ; M. Othman ; M. Yun ; N. Biswas ; N. Mehta ; S. Guha ; K. Gangopadhyay ; S. Gangopadhyay
出版情報: Physics and technology of high-k gate dielectrics 4.  pp.535-544,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 3(3)
2.

国際会議録
国際会議録
2. The HMDS coating flaw removal tool
M. V. Monticelli ; M. C. Nostrand ; N. Mehta ; L. Kegelmeyer ; M. A. Johnson
出版情報: Laser-Induced Damage in Optical Materials: 2008.  pp.71320V-1-71320V-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7132