1.

国際会議録
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1. INTERACTIONS AND STABILITY OF Cu ON CoSI2
Shy, Y. -Y. ; Murarka, S. P. ; Sitaram, A. R. ; Ding, P. -J. ; Lanford, W.A
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.151-156,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
2.

国際会議録
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2. COBALT SILICIDE FORMATION ON POLYSILICON: DOPANT EFFECTS ON REACTION KINETICS AND SILICIDE PROPERTIES
Sitaram, A. R. ; Murarka, S. P.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.185-192,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
3.

国際会議録
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3. STABILITY OF SPUTTER DEPOSITED A1-Cu BILAYERS ON SiO2
Nandan, R. ; Murarka, S. P. ; Pant, A. ; Shepard, C. ; Lanford, W. A.
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.929-934,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
4.

国際会議録
国際会議録
4. ION IMPLANTATION TO INHIBIT CORROSION OF COPPER
Ding, P. J. ; Lanford, W. A. ; Hymes, S. ; Murarka, S. P.
出版情報: Advanced metallization and processing for semiconductor devices and circuits--II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.757-762,  1992.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 260
5.

国際会議録
国際会議録
5. INTERMETALLIC REACTIONS BETWEEN COPPER AND MAGNESIUM AS AN ADHESION/BARRIER LAYER
Arcot, Binny ; Cabral Jr., C. ; Harper, J. M. E. ; Murarka, S. P.
出版情報: Materials reliability issues in microelectronics : symposium held April 30-May 3, 1991, Anaheim, California, U.S.A..  pp.231-236,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 225
6.

国際会議録
国際会議録
6. IN SITU STUDY OF STRESSES GENERATED DURING THE FORMATION OF COBALT DISILICIDE AND THE EFFECT OF POST SILICIDE PROCESSING
Sitaram, A. R. ; Kalb Jr., J. C. ; Murarka, S. P.
出版情報: Thin films : stresses and mechanical properties II : symposium held April 16-19, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.67-72,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 188
7.

国際会議録
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7. FORMATION OF COBALT SILICIDES IN ARSENIC IMPLANTED COBALT ON SILICON SYSTEM
Sitaram, A. R. ; Murarka, S. P.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.97-104,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
8.

国際会議録
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8. COBALT SILICIDE FORMATION ON POLYSILICON: DOPANT EFFECTS ON REACTION KINETICS AND SILICIDE PROPERTIES
Sitaram, A. R. ; Murarka, S. P.
出版情報: Polysilicon thin films and interfaces.  pp.83-88,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 182
9.

国際会議録
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9. INSTABILITIES IN THE MECHANICAL STRESS IN DEPOSITED SiO2 FILMS CAUSED BY THERMAL TREATMENTS
Bhushan, Bharat ; Murarka, S. P.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.463-468,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
10.

国際会議録
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10. ION IMPLANTATION TO INHIBIT CORROSION OF COPPER
Ding, P. J. ; Lanford, W. A. ; Hymes, S. ; Murarka, S. P.
出版情報: Materials reliability in microelectronics II : symposium held April 27-May 1, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.199-204,  1992.  Pittsburgh, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 265