1.

国際会議録
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1. polarization effects: EAPSM vs. TT EAPSM [6281-12]
Morgana, N. ; Conley, W. ; Cangemi, M. ; Cangemi, M. ; Kasprowicz, S. B.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.628109-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
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2. Manufacturability and printability of AAPSM with transparent etch stop layer [6281-54]
Cangemi, M. ; Philipsen, V. ; De Ruyter, R. ; Leunissen, L. ; Morgana, N. ; Sixt, P. ; Cangemi, M. ; Cottle, R. ; Kasprowicz, B.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810T-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
3.

国際会議録
国際会議録
3. Tunable transmission phase mask options for 65/45nm node gate and contact processing
Kasprowicz, B. S. ; Conley, W. ; Ham, Y.-M. ; Cangemi, M. J. ; Morgana, N. ; Cottle, R. ; Progler, C. J. ; Wu, W. ; Litt, L. C. ; Cobb, J. ; Roman, B.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1469-1477,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
4.

国際会議録
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4. Complementary dipole exposure solutions at 0.29 k1
Heumann, J. ; Schramm, J. ; Birnstein, A. ; Park, K. T. ; Witte, T. ; Morgana, N. ; Hennig, M. ; Pforr, R. ; Thiele, J. ; Schmidt, N. ; Aquino, C.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.327-338,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
5.

国際会議録
国際会議録
5. High transmission mask technology for 45nm node imaging [6154-38]
Conley, W. ; Morgana, N. ; Kasprowicz, B. S. ; Cangemi, M. ; Lassiter, M. ; Litt, L. C. ; Cangemi, M. ; Cottle, R. ; Wu, W. ; Cobb, J. ; Ham, Y. -M. ; Lucas, K. ; Roman, B. ; Progler, C.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615411-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
6.

国際会議録
国際会議録
6. Optical properties and process impacts of high transmission EAPSM [6154-40]
Ham, Y. M. ; Morgana, N. ; Sixt, P. ; Cangemin, M. ; Kasprowicz, B. ; Progler, C. ; Martin, P.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615413-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
7.

国際会議録
国際会議録
7. High transmission mask technology for 45nm node imaging [6154-50]
Conley, W. ; Morgana, N. ; Kasprowicz B S ; Cangemi M ; Lassiter M ; Litt L C ; Cangemin M ; Cottle R ; Wu W ; Cobb J ; Ham Y M ; Lucas, K. ; Roman, B. ; Porgler, C.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61541D-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
8.

国際会議録
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8. Full-level alternating PSM for sub-100nm DRAM gate patterning
Pforr, R. ; Ahrens, M. ; Dettmann, W. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Ludwig, B. ; Morgana, N. ; Thiele, J.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.232-243,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
9.

国際会議録
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9. Qualification of alternating PSM: defect inspection analysis in comparison to wafer printing results
Dettmann, W. ; Heumann, J.P. ; Hagner, T. ; Koehle, R. ; Rahn, S. ; Verbeek, M. ; Zarrabian, M. ; Weckesser, J. ; Hennig, M. ; Morgana, N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.415-422,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
10.

国際会議録
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10. Hard phase-shifting masks for the 65-nm node: a performance comparison
Pforr, R. ; Hennig, M. ; Koehle, R. ; Morgana, N. ; Thiele, J. ; Weckesser, J.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.212-221,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377