1.

国際会議録
国際会議録
1. Improvement of ZEN 4100
Mitao,N. ; Abe,N. ; Kawata,A. ; Tanaka,K. ; Yamamoto,Y. ; Minagawa,T. ; Uraguchi,M. ; Ogawa,M.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.53-60,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
2.

国際会議録
国際会議録
2. Optimization of ZEN41OO(2)
Mitao,N. ; Abe,N. ; Sugimura,M.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.292-296,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412