1.

国際会議録
国際会議録
1. Ellipsometric scatterometry for sub-0.1-ｦﾌm CD measurements
Coulombe,S.A. ; Logofatu,P.C. ; Minhas,B.K. ; Naqvi,S.S.H. ; McNeil,J.R.
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XII : 23-25 February 1998, San Clara, California.  pp.282-293,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3332
2.

国際会議録
国際会議録
2. Toward sub-0.1-ｦﾌm CD measurements using scatterometry
Minhas,B.K. ; Prins,S.L. ; Naqvi,S.S.H. ; McNeil,J.R.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X.  pp.729-739,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2725