1.

国際会議録
国際会議録
1. Semiconductor pattern analysis with induced polarization [5992-58]
Chen, T. ; Milster, T. ; Yang, S. H.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921L-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
2.

国際会議録
国際会議録
2. Influence of OPC features on the profile of 2D mask patterns
Khoh, A. ; Milster, T. ; Choi, B.-I. ; Samudra, G.S. ; Wu, Y.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1127-1138,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
国際会議録
3. Maskless lithography with the solid immersion lens nano probes
Milster, T. ; Chen, T. ; Nam, D. ; Schlesinger, T. E.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.545-556,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567