1.

国際会議録
国際会議録
1. Transient Enhanced Diffusion for Ultra Low Energy Boron, Phosphorus, and Arsenic Implantation in Silicon
Amitabh, Ning Yu ; Mercer, Doug
出版情報: Silicon front-end technology--materials processing and modelling, symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.35-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 532
2.

国際会議録
国際会議録
2. Oxygen Stabilization of Damage Induced by MeV Ion Implantation
Jain, Amitabh ; Mercer, Doug
出版情報: Defects and diffusion in silicon processing : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.481-,  1997.  Pittsburg, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 469