1.

国際会議録
国際会議録
1. Prediction of CMOS transistor performance at 0.10-ｦﾌm gate length using tuned simulations
Sridhar,S. ; Mehrotra,M. ; Rodder,M. ; Nandakumar,M. ; Chen,I.-C.
出版情報: Microelectronic Device Technology : 1-2 October 1997, Austin, Texas.  pp.208-219,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3212
2.

国際会議録
国際会議録
2. Sheet resistance requirements for the source/drain regions of 0.11-ｦﾌm gate length CMOS technology
Mehrotra,M. ; Chatterjee,A. ; Chen,I.-C
出版情報: Microelectronic Device Technology : 1-2 October 1997, Austin, Texas.  pp.162-170,  1997.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3212
3.

国際会議録
国際会議録
3. Prediction of deep submicron MOS transistor performance and comparison with projected performance trends using tuned simulations
Sridhar,S. ; Chao,C.-P. ; Mehrotra,M. ; Nandakumar,M. ; Chen,I.-C.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.234-242,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
4.

国際会議録
国際会議録
4. New methodology of simulating pocket-implanted sub-0.18-ｦﾌm CMOS
Mehrotra,M. ; Hu,J.C. ; Nandakumar,M. ; Chattenee,A. ; Rodder,M. ; Chen,I.-C.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.272-280,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
5.

国際会議録
国際会議録
5. Optimum junction depth design of the S/D extension regions (MDD) for sub-0.18-ｦﾌm CMOS technologies
Chao,C.-P. ; Mehrotra,M. ; Chen,I.-C.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.281-292,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506