1.

国際会議録
国際会議録
1. Integration of new alignment mark designs in dual inlaid-copper interconnect processes
Warrick, S.P. ; Hinnen, P.C. ; van Haren, R.J. ; Smith, C.J. ; Megens, H.J. ; Fu, C.-C.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.971-980,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
2.

国際会議録
国際会議録
2. Advances in process overlay: ATHENA alignment system performance on critical process layers
Laidler, D. ; Megens, H.J. ; Lalbahadoersing, S. ; van Haren, R.J. ; Bornebroek, F.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVI.  Part One  pp.397-408,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4689