1.

国際会議録
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1. The impact of mask topography on binary reticles at the 65nm node
Word, J. ; Belledent, J. ; Trouiller, Y. ; Granik, Y. ; Toublan, O. ; Maurer, W.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.527-536,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. ORS and LfD as first steps towards DfM [6281-23]
Marz, R. ; Peter, K. ; Maurer, W.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810I-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
3.

国際会議録
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3. ION-PROJECTION LITHOGRAPHY FOR SUBMICRON MODIFICATION OF MATERIALS
Stengl, G. ; Loschner, H. ; Maurer, W. ; Wolf, P.
出版情報: Energy beam-solid interactions and transient thermal processing/1984 : symposium held November 26-30, 1984, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.533-538,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 35
4.

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4. Failure prediction across process window for robust OPC
Shang, S.D. ; Granik, Y. ; Cobb, N.B. ; Maurer, W. ; Cui, Y. ; Liebmann, L.W. ; Oberschmidt, J.M. ; Singh, R.N. ; Vampatella, B.R.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing II : 26-28 February 2003, Santa Clara, California, USA.  pp.376-385,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5042
5.

国際会議録
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5. OPC aware mask and wafer metrology
Maurer, W. ; Wiaux, V. ; Jonckheere, R.M. ; Philipsen, V. ; Hoffmann, T. ; Verhaegen, S. ; Ronse, K.G. ; England, J.G. ; Howard, W.B.
出版情報: 18th European Conference on Mask Technology for Integrated Circuits and Microcomponents.  pp.175-181,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4764
6.

国際会議録
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6. Failure prediction across process window for robust OPC
Shang, S.D. ; Granik, Y. ; Cobb, N.B. ; Maurer, W. ; Cui, Y. ; Liebmann, L.W. ; Oberschmidt, J.M. ; Singh, R.N. ; Vampatella, B.R.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.431-440,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
7.

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7. Alternatives to alternating phase-shift masks for 65 nm
Torres, J.A. ; Maurer, W.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.540-550,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
8.

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8. MEEF-based mask inspection
Maurer, W. ; Word, J. ; Schulze, S. F. ; Shang, S. D.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.98-106,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
9.

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9. Assessment of OPC effectiveness using two-dimensional metrics
Wiaux, V. ; Philipsen, V. ; Jonckheere, R. ; Vandenberghe, G. ; Verhaegen, S. ; Hoffmann, T. ; Ronse, K. ; Howard, W.B. ; Maurer, W. ; Preil, M.E.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.395-406,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
10.

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10. Flows for model-based layout correction of mask proximity effects
Cobb, N.B. ; Maurer, W.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.956-964,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256