1.

国際会議録
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1. Challenge to sub-0.1-ｦﾌm pattern fabrication using an alternating phase-shifting mask in ArF lithography
Matsuo,T. ; Nakazawa,K. ; Ogawa,T.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.302-309,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
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2. Development of ZrSiO attenuated phase-shift mask for ArF excimer laser lithography
Fukuhara,N. ; Haraguchi,T. ; Kanayama,K. ; Matsuo,T. ; Takeuchi,S. ; Tomiyama,K. ; Saga,T. ; Hattori,Y. ; Ooshima,T. ; Otaki,M.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part2  pp.979-986,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
3.

国際会議録
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3. Zr-based films for attenuated phase-shift mask
Matsuo,T. ; Ohkubo,K. ; Haraguchi,T. ; Ueyama,K.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.354-361,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
4.

国際会議録
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4. Feasibility study of an embedded transparent phase-shifting mask in ArF lithography
Matsuo,T. ; Ogawa,T. ; Morimoto,H.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.443-451,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
5.

国際会議録
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5. ZrSiO:a new and robust material for attenuated phase-shift mask in ArF Lithography
Onodera,T. ; Matsuo,T. ; Nakazawa,K. ; Miyazaki,J. ; Ogawa,T. ; Morimoto,H. ; Haraguchi,T. ; Fukuhara,N. ; Otaki,M. ; Takeuchi,S.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part1  pp.337-343,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
6.

国際会議録
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6. High-silicon-concentration TSI process for 193-nm lithography
Mori,S. ; Morisawa,T. ; Matsuzawa,N.N. ; Kaimoto,Y. ; Endo,M. ; Matsuo,T. ; Kuhara,K. ; Ohfuji,T. ; Sasago,M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.587-594,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
7.

国際会議録
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7. Improved positive surface modification resist process for 193-nm lithography
Endo,M. ; Matsuo,T. ; Mori,S. ; Morisawa,T. ; Kuhara,K. ; Sasago,M. ; Shirai,M. ; Tsunooka,M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.534-545,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
8.

国際会議録
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8. Polymer design in surface modification resist process for ArF lithography
Matsuo,T. ; Endo,M. ; Mori,S. ; Kuhara,K. ; Sasago,M. ; Shirai,M. ; Tsunooka,M.
出版情報: Advances in resist technology and processing XV : 23-25 February 1998, Santa Clara, California.  Part 1  pp.2-10,  1998.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3333
9.

国際会議録
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9. Electric field application to molten lithium borates
Katsumata,T. ; Suzuki,N. ; Shibasaki,M. ; Matsuo,T.
出版情報: Materials research in low gravity II : 19-21 July 1999, San Diego, California.  pp.242-249,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3792
10.

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10. CrOxFy as a material for attenuated phase-shift masks in ArF lithography
Nakazawa,K. ; Matsuo,T. ; Onodera,T. ; Morimoto,H. ; Mohri,H. ; Hatsuta,C. ; Hayashi,N.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII.  pp.682-687,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4066