1.

国際会議録
国際会議録
1. Repairing Ta absorber x-ray masks with gas-assisted focused-ion-beam etching
Okada,I. ; Saitoh,Y. ; Hamashima,M. ; Sekimoto,M. ; Matsuda,T.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.269-274,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
2.

国際会議録
国際会議録
2. Improving stress stability of Ta film for x-ray mask absorbers
Oda,M. ; Sakatani,M. ; Uchiyama,S. ; Matsuda,T.
出版情報: Photomask and X-ray mask technology IV : 17-18 April, 1997, Kawasaki, Japan.  pp.245-250,  1997.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3096
3.

国際会議録
国際会議録
3. 1.06-ｦﾌm optically addressable liquid crystal spatial light modulator for an HV target of the indoor laser radar system
Itoh,H. ; Yamamoto,Y. ; Yamamoto,S. ; Iwata,M. ; Nishiyama,E. ; Matsuda,T. ; Watanabe,M.
出版情報: Optics in computing 2000 : 18-23 June 2000, Quebec city, Canada.  pp.736-742,  2000.  Bellingham, WA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4089
4.

国際会議録
国際会議録
4. Delineation performances of advanced 100-kV EB writer on x-ray membrane mask
Nakayama,Y. ; Aoyama,H. ; Tsuboi,S. ; Watanabe,H. ; Kikuchi,Y. ; Ezaki,M. ; Matsui,Y. ; Morosawa,T. ; Saito,K. ; Ohki,S. ; Matsuda,T.
出版情報: Emerging lithographic technologies IV : 28 February-1 March 2000, Santa Clara, USA.  pp.105-112,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3997
5.

国際会議録
国際会議録
5. Enhanced defect inspection method for x-ray masks
Sekimoto,M. ; Okada,I. ; Saitoh,Y. ; Matsuda,T.
出版情報: Electron-beam, X-ray, EUV, and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing VI : 11-13 March 1996, Santa Clara, California.  pp.348-359,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2723
6.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
6. Colored LCD for Automotive Use
Owa,M. ; Matsuda,T. ; Iida,S. ; Matsushita,S. ; Araki,H.
出版情報: Electronic displays and information systems.  pp.29-35,  1986.  "Society of Automotive Engineering, Inc."
シリーズ名: SAE special publication
シリーズ巻号: SP-654
7.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
7. Measurements of Ignition Delay Times In Cornstarch Dust-air Mixture
Matsuda,T. ; Tsukioka,Y. ; Benkiewicz,K. ; Hayashi,A.K.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-6,  2001.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : Aerospace Sciences Meeting and Exhibit
シリーズ巻号: 2001
8.

国際会議録
国際会議録
8. Present status and technical issues of x-ray lithography (Invited Paper)
Deguchi,K. ; Nakamura,J. ; Nakanishi,K. ; Matsuda,T.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.341-349,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412
9.

国際会議録
国際会議録
9. Cleaning process for x-ray masks
Saitoh,Y. ; Ohkubo,T. ; Okada,I. ; Sekimoto,M. ; Matsuda,T.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology III.  pp.198-203,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2793
10.

国際会議録
国際会議録
10. Improving the measurement accuracy of pattern width and position of x-ray masks
Uchiyama,S. ; Oda,M. ; Sakatani,M. ; Matsuda,T.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology V.  pp.112-117,  1998.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3412