1.

国際会議録
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1. Gray scaling in high performance mask making [5853-94]
Martinsson, H. ; Sandstrom, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.1031-1043,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
2.

国際会議録
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2. Gray scaling in high performance optical pattern generators [5992-30]
Martinsson, H. ; Sandstrom, T. ; Rockwell, B.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59920T-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
3.

国際会議録
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3. Transparent corner enhancement scheme for a DUV pattern generator
Martinsson, H. ; Hellgren, J. ; Eriksson, N. ; Bjuggren, M. ; Sandstrom, T.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.297-308,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
4.

国際会議録
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4. RET for optical maskless lithography
Sandstrom, T. ; Martinsson, H.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1750-1763,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
5.

国際会議録
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5. Rasterizing for SLM-based mask making and maskless lithography
Martinsson, H. ; Sandstrom, T.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.557-564,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567