1.

国際会議録
国際会議録
1. Merged 2.5-V and 3.3-V 0.25-ｦﾌm CMOS technology
Kizilyalli,I.C. ; Huang,R.Y. ; Hwang,D. ; Kane,B.C. ; Ashton,R. ; Kuehne,S. ; Deng,X. ; Twiford,M.S. ; Martin,E.P. ; Shuttleworth,O. ; Wittingham,K. ; Lytle,S. ; Ma,Y. ; Roy,P.K. ; Olmer,L. ; Vaidya,H. ; Li,F. ; Li,X. ; Persson,E. ; Massengale,A.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.175-181,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
2.

国際会議録
国際会議録
2. Low-pressure aluminum planarization for sub-0.5-ｦﾌm via holes
Biberger,M.A. ; Conci,D. ; Lyons,J. ; Rumer,M. ; Tam,L. ; Tkach,G. ; Hoffman,V. ; Martin,E.P. ; Merchant,S.M.,Jr.
出版情報: Multilevel Interconnect Technology.  pp.72-78,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3214