1.

国際会議録
国際会議録
1. A HIGH DEPTH RESOLUTION BACKSIDE SECONDARY ION MASS SPECTROMETRY TECHNIQUE USED FOR STUDYING METAL/GaAs CONTACTS
Palmstrom, C.J. ; Schwarz, S.A. ; Marshall, E.D. ; Yablonovitch, E. ; Harbison, J.P. ; Schwartz, C.L. ; Florez, L. ; Gmitter, T.J. ; Wang, L.C. ; Lau, S.S.
出版情報: Advanced surface processes for optoelectronics : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.283-288,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 126
2.

国際会議録
国際会議録
2. NON-ALLOYED OHMIC CONTACTS TO n-GaAs USING EPITAXIAL Ge LAYERS
Sawada, T. ; Chen, W.X. ; Marshall, E.D. ; Kavanagh, K.L. ; Kuech, T.F. ; Pai, C.S. ; Lau, S.S.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.409-414,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54