1.

国際会議録
国際会議録
1. ANALYSIS FOR THE CHARACTERIZATION OF OXYGEN IMPLANTED SILICON (SIMOX) BY SPECTROSCOPIC ELLIPSOMETRY
Doss, M.G. ; Chandler-Horowitz, D. ; Marchiando, J.F. ; Krause, S. ; Seraphin, S.
出版情報: Defects in materials : symposium held November 26-29, 1990, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.493-498,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 209
2.

国際会議録
国際会議録
2. Practical Metrology Aspects of Scanning Capacitance Microscopy for Silicon 2-D Dopant Profiling
Kopanski, J.J. ; Marchiando, J.F. ; Alvis, R.
出版情報: Proceedings of the Electrochemical Society Symposium on Diagnostic Techniques for Semiconductor Materials and Devices.  pp.102-113,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-12